集邦咨询：2023 年半导体光刻胶市场收入下降 6-9%明年有望复苏

  IT之家12 月 27 日消息，集邦咨询近日发布《2023 年全球光刻胶市场分析》，预估 2023 年半导体光刻胶市场出售的收益同比下降 6-9%。

  不过该机构预估随着下游客户库存持续改善和产能逐步恢复，2024 年半导体行业将经历复苏，光刻胶需求也有望反弹。

  光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射，其溶解度发生明显的变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

  光刻胶是光刻工艺中的关键材料，主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。

  光刻胶品种众多，本次提价涉及的 KrF 光刻胶属于高端光刻胶，是未来国内外厂商的主要竞争市场之一。

  目前光刻胶市场一直由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进半导体等主要制造商主导。

  光刻胶行业需要高度专业化，涉及复杂的树脂、感光酸和添加剂配方，每家公司都将其视为商业机密。

  巨大的技术壁垒，加上从实验室试验到市场生产对纯度和性能的需求，使得整个产品研究开发过程既耗时又复杂。

  此外，实现用户要求和生产线 年的验证，让客户难以转移现有合作的光刻胶公司。

  随着下游客户库存的持续改善、产能利用率的逐步恢复，以及 AI、智能汽车等应用的成熟和激增，预计半导体行业将在 2024 年经历复苏。

  半导体光刻胶市场也有望反弹，市场规模将恢复到 2022 年的历史峰值，并进一步增长，到 2027 年将超过 28 亿美元。

  随着对先进工艺需求的持续增长，EUV、ArFi / ArF 等高端光刻胶也将持续增长。特别是，EUV 光刻胶有望大幅度增长，这还在于该行业追求具有更高计算能力和能源效率的芯片。

  使用 EUV 技术生产的先进芯片数量预计将大幅度的增加，使 EUV 光刻胶成为半导体光刻胶市场中增长潜力最大的细分市场，预计到 2025 年，EUV 光刻胶将占 10% 的市场份额。

  由于光刻胶生产的进入壁垒很高，目前，日本制造商主导着全球光刻胶市场，供应比例约为 80%。

  特别是在 EUV、ArFi / ArF 等先进光刻胶领域，JSR、TOK 和信越化学等日本大公司占据绝对主导地位，此前也经历了多次光刻胶供应商的供应中断事件。

  而我国中低端光刻胶产能率已达到 30%，并慢慢地增加 ArF 和 EUV 光刻胶领域的研发力度。ArF 光刻胶已实现部分进口替代，预计未来国内产能将逐步提升。

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